产品信息
您所在的位置:首页 > 详细信息

新乡硅片回收多少钱一张,快速上门,免费估价

2021-09-20 01:45:09 64次浏览

价 格:面议

等离子刻蚀是在低压状态下,反应气体CF4的母体分子在射频功率的激发下,产生电离并形成等离子体。等离子体是由带电的电子和离子组成,反应腔体中的气体在电子的撞击下,除了转变成离子外,还能吸收能量并形成大量的活性基团。活性反应基团由于扩散或者在电场作用下到达SiO2表面,在那里与被刻蚀材料表面发生化学反应,并形成挥发性的反应生成物脱离被刻蚀物质表面,被真空系统抽出腔体。

抛光硅表面的反射率为35%,为了减少表面反射,提高电池的转换效率,需要沉积一层氮化硅减反射膜。工业生产中常采用PECVD设备制备减反射膜。PECVD即等离子增强型化学气相沉积。它的技术原理是利用低温等离子体作能量源,样品置于低气压下辉光放电的阴极上,利用辉光放电使样品升温到预定的温度,然后通入适量的反应气体SiH4和NH3,气体经一系列化学反应和等离子体反应,在样品表面形成固态薄膜即氮化硅薄膜。

一般情况下,使用这种等离子增强型化学气相沉积的方法沉积的薄膜厚度在70nm左右。这样厚度的薄膜具有光学的功能性。利用薄膜干涉原理,可以使光的反射大为减少,电池的短路电流和输出就有很大增加,效率也有相当的提高。

硅片回收,就是对硅片进行回收,以便进行硅的二次利用,从而避免其污染环境,并能够提高硅的利用率。

硅片回收及加工过程,包括了很多步骤,但总的要求是:

(1)能够修正一些物理性能,包括尺寸、形状、平整度等方面;

(2)避免出现表面损伤,消除表面的脏污或者颗粒。

版权所有:河南丰裕光伏科技有限公司(ID:11307989) 技术支持:孙翠翠

7

回到顶部